A dolgozat témája az alacsony nyomású gázokban megvalósított elektromos kisülési plazma optikai sugárzási folyamatának illetve a reaktív magnetronos PVD plazmaporlasztási eljárás plazmafizikai folyamatának tanulmányozása a vékonyrétegek előállításában. A plazma állapotának jellemzését egy az elektromos kisülési plazmában gerjesztett atomok jellegzetes sugárzását figyelő optikai rendszer hivatott biztosítani. Ezen optikai rendszer alkotó elemei; ellenőrzött áteresztésű optikai kollimációs rendszer, optikai hullámvezető, nagyfeloldású rácsos monokromátor illetve fotomultiplikátor. Az optikai rendszer kalibrálását egy etalon, ismert hullámhosszon sugárzó forrás segítségével valósítjuk meg, majd a reaktív porlasztási folyamat gerjeszett atomjainak karakterisztikus sugárzási spektrumát azonosítjuk. A spektrumanalízis mérési eredmények gyakorlatba ültetésének lehetőségét vizsgáljuk a reaktív porlasztási folyamatban növesztett tribológiai vékonyrétegek ellenőrzött növesztése céljából.